發(fā)布時(shí)間: 2023-09-11 點(diǎn)擊次數(shù): 1031次
納米粒度和zeta電位儀是種常用的粒子表征儀器,用于研究納米顆粒的粒度和表面電荷特性。用于測(cè)量納米顆粒尺寸分布的儀器。其原理主要基于動(dòng)態(tài)光散射技術(shù),通過(guò)照射激光光束到樣品中的顆粒上,利用散射光的分布特征來(lái)測(cè)量顆粒的尺寸分布。當(dāng)激光照射到顆粒上時(shí),顆粒表面發(fā)生散射現(xiàn)象,而散射光的強(qiáng)度和方向與顆粒的尺寸有關(guān)。納米粒度儀通過(guò)測(cè)量散射光的強(qiáng)度和角度分布,運(yùn)用Mie理論進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,得到顆粒的粒度分布。
納米粒度儀常用的測(cè)量技術(shù)包括動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)和靜態(tài)光散射技術(shù)。動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)適用于顆粒尺寸在幾納米到幾微米范圍內(nèi)的測(cè)量,通過(guò)頻域分析和相移分析得到散射光的自相關(guān)函數(shù),進(jìn)而推導(dǎo)出顆粒的尺寸分布。靜態(tài)光散射技術(shù)適用于顆粒尺寸在數(shù)納米到幾百納米范圍內(nèi)的測(cè)量,通過(guò)分析散射光的強(qiáng)度和角度分布得到粒徑數(shù)據(jù)。
當(dāng)選擇納米粒度和Zeta電位儀時(shí),有幾個(gè)關(guān)鍵因素需要考慮:
1.確定所需的納米粒度測(cè)量范圍和Zeta電位測(cè)量范圍。不同的儀器可能具有不同的測(cè)量范圍,因此要確保選擇的儀器適用于你的應(yīng)用需求。
2.納米粒度的測(cè)量通常使用動(dòng)態(tài)光散射技術(shù),其中光散射的強(qiáng)度與粒子的尺寸相關(guān)。而Zeta電位的測(cè)量通常使用電泳光散射技術(shù),該技術(shù)測(cè)量粒子在電場(chǎng)中的移動(dòng)速度。確保選擇的儀器采用先進(jìn)的測(cè)量技術(shù)以提供準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果。
3.考慮你的樣品類(lèi)型和處理需求。某些儀器可能需要樣品預(yù)處理,例如稀釋、離心或過(guò)濾。確保選擇的儀器適用于你的樣品類(lèi)型,并且需要的樣品處理步驟合理。
4.儀器的穩(wěn)定性對(duì)于準(zhǔn)確測(cè)量納米粒度和Zeta電位至關(guān)重要。確保選擇的儀器具有穩(wěn)定的光源、檢測(cè)器和電場(chǎng),以減少測(cè)量誤差。
5.對(duì)于納米粒度和Zeta電位的測(cè)量結(jié)果,你可能需要進(jìn)行數(shù)據(jù)分析和解釋。確保選擇的儀器附帶易于使用和功能強(qiáng)大的數(shù)據(jù)分析軟件。